凸版印刷構建22/20nmArF掩模生產(chǎn)線(xiàn)
2010-09-17 08:58 來(lái)源：日經(jīng)BP社 責編：Victoria
- 摘要：
- 運用此次的掩模技術(shù)有望緩解掩模設計中的限制以及提高晶圓處理工序的生產(chǎn)效率，“不僅可以提高掩模自身性能，而且可以通過(guò)與晶圓處理工序中轉印時(shí)的優(yōu)點(diǎn)形成的組合效果，實(shí)現優(yōu)異的總體光刻解決方案”（凸版印刷）。
【CPP114】訊：凸版印刷宣布已經(jīng)建立了面向22nm及20nm工藝的ArF掩模供應體制。在該公司的朝霞光掩模工廠(chǎng)內，構建了22nm/20nm用的ArF掩模生產(chǎn)線(xiàn)，提供給半導體廠(chǎng)家的試制及量產(chǎn)用途。該技術(shù)是與美國IBM聯(lián)合開(kāi)發(fā)的。
此次開(kāi)發(fā)的掩模技術(shù)工藝為了使用ArF曝光技術(shù)來(lái)支持20nm工藝，主要采用了以下三項掩模技術(shù)。第一，開(kāi)發(fā)出了可支持ArF曝光微細工藝所需的二次圖形（DP）和SMO（Source Mask Optimization）掩模技術(shù)。第二，導入名為薄膜OMOG（opaque MoSi on glass）的新型掩模材料，提高了微細圖案的分辨率、尺寸的均勻性和掩模的平坦度，降低了工藝造成的位置精度劣化，提高了掩模耐清洗性等。第三，減小了掩模的厚度。隨著(zhù)工藝的微細化，電磁場(chǎng)偏置（electromagnetic field bias）等起因于掩模厚度的影響逐漸顯現。此次通過(guò)減薄薄膜厚度，減小了這些不良影響。
運用此次的掩模技術(shù)有望緩解掩模設計中的限制以及提高晶圓處理工序的生產(chǎn)效率，“不僅可以提高掩模自身性能，而且可以通過(guò)與晶圓處理工序中轉印時(shí)的優(yōu)點(diǎn)形成的組合效果，實(shí)現優(yōu)異的總體光刻解決方案”（凸版印刷）。該技術(shù)的具體細節預定在掩模相關(guān)國際會(huì )議“2010 SPIE Photomask Technology Conference”（9月13～16日，美國蒙特里）上發(fā)布。
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此次開(kāi)發(fā)的掩模技術(shù)工藝為了使用ArF曝光技術(shù)來(lái)支持20nm工藝，主要采用了以下三項掩模技術(shù)。第一，開(kāi)發(fā)出了可支持ArF曝光微細工藝所需的二次圖形（DP）和SMO（Source Mask Optimization）掩模技術(shù)。第二，導入名為薄膜OMOG（opaque MoSi on glass）的新型掩模材料，提高了微細圖案的分辨率、尺寸的均勻性和掩模的平坦度，降低了工藝造成的位置精度劣化，提高了掩模耐清洗性等。第三，減小了掩模的厚度。隨著(zhù)工藝的微細化，電磁場(chǎng)偏置（electromagnetic field bias）等起因于掩模厚度的影響逐漸顯現。此次通過(guò)減薄薄膜厚度，減小了這些不良影響。
運用此次的掩模技術(shù)有望緩解掩模設計中的限制以及提高晶圓處理工序的生產(chǎn)效率，“不僅可以提高掩模自身性能，而且可以通過(guò)與晶圓處理工序中轉印時(shí)的優(yōu)點(diǎn)形成的組合效果，實(shí)現優(yōu)異的總體光刻解決方案”（凸版印刷）。該技術(shù)的具體細節預定在掩模相關(guān)國際會(huì )議“2010 SPIE Photomask Technology Conference”（9月13～16日，美國蒙特里）上發(fā)布。
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