凸版印刷公司28nm掩模工藝準備就緒
2009-04-29 11:54 來(lái)源：電子工程 責編：覃麗妮
【編者按：通過(guò)正在進(jìn)行的與IBM的項目合作，凸版印刷（Toppan Printing）公司宣布已經(jīng)開(kāi)發(fā)了用于32nm和28nm節點(diǎn)光學(xué)掩模的新的制造工藝�！�
【中華印刷包裝網(wǎng)】 通過(guò)正在進(jìn)行的與IBM的項目合作，凸版印刷（Toppan Printing）公司宣布已經(jīng)開(kāi)發(fā)了用于32nm和28nm節點(diǎn)光學(xué)掩模的新的制造工藝。Toppan表示，在日本Asaka制造的光學(xué)掩模與IBM在Essex Junction工廠(chǎng)的掩模完全兼容，且得到了IBM的認證。
IBM和Toppan去年宣布在32nm光學(xué)掩模工藝和22nm所有的掩模工藝上進(jìn)行開(kāi)發(fā)合作。Toppan在2005年就開(kāi)始與IBM合作攻克45nm節點(diǎn)。目前的工作包括支持22nm源掩模最優(yōu)化（SMO）的專(zhuān)門(mén)的掩模，Toppan表示。SMO是將光照源和掩模同時(shí)進(jìn)行最優(yōu)化，并被看作是實(shí)現22nm以及更高節點(diǎn)的沉浸式光刻的可行方法。
Toppan表示通過(guò)與IBM合作的技術(shù)財產(chǎn)積累，該公司計劃在2011年開(kāi)始SMO光掩模的批量生產(chǎn)。
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IBM和Toppan去年宣布在32nm光學(xué)掩模工藝和22nm所有的掩模工藝上進(jìn)行開(kāi)發(fā)合作。Toppan在2005年就開(kāi)始與IBM合作攻克45nm節點(diǎn)。目前的工作包括支持22nm源掩模最優(yōu)化（SMO）的專(zhuān)門(mén)的掩模，Toppan表示。SMO是將光照源和掩模同時(shí)進(jìn)行最優(yōu)化，并被看作是實(shí)現22nm以及更高節點(diǎn)的沉浸式光刻的可行方法。
Toppan表示通過(guò)與IBM合作的技術(shù)財產(chǎn)積累，該公司計劃在2011年開(kāi)始SMO光掩模的批量生產(chǎn)。
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