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      50年印刷電路板的歷程

      2011-07-08 10:10 來(lái)源:互聯(lián)網(wǎng) 責編:Victoria

      摘要:
      最初知道“印制板”是在1948年,當時(shí)是進(jìn)入東京芝浦電氣株式會(huì )社剛2年的新員工,受課長(cháng)指示開(kāi)始調查“印制板”。到允許日本人閱覽的美國駐軍圖書(shū)室查閱,偶然發(fā)現了“印制電路技術(shù)”為題的技術(shù)論文。
              【CPP114】訊:印制線(xiàn)路板(PWB)技術(shù)50年間發(fā)展以作者(伊藤瑾司)的見(jiàn)解分為6個(gè)時(shí)期,介紹如下:

        1、PWB誕生期:1936年~(制造方法:加成法)

        作者最初知道“印制板”是在1948年,當時(shí)是進(jìn)入東京芝浦電氣株式會(huì )社剛2年的新員工,受課長(cháng)指示開(kāi)始調查“印制板”。到允許日本人閱覽的美國駐軍圖書(shū)室查閱,偶然發(fā)現了“印制電路技術(shù)”為題的技術(shù)論文。當時(shí)沒(méi)有復印機,需要的文獻只能用筆抄寫(xiě),論文全部約有200頁(yè),詳細敘述了涂抹法、噴射法、真空沉積法、蒸發(fā)法、化學(xué)沉積法、涂敷法等各種工藝,所介紹的都是絕緣板表面添加導電性材料形成導體圖形,稱(chēng)為“加成法工藝”。使用這類(lèi)生產(chǎn)專(zhuān)利的印制板曾在1936年底時(shí)應用于無(wú)線(xiàn)電接收機中。

        2、PWB試產(chǎn)期:1950年~(制造方法:減成法)

        作者在進(jìn)入沖電氣工業(yè)公司1年后,在1953年起通信設備業(yè)對PWB開(kāi)始重視,制造方法是使用覆銅箔紙基酚醛樹(shù)脂層壓板(PP基材),用化學(xué)藥品溶解除去不需要的銅箔,留下的銅箔成為電路,稱(chēng)為“減成法工藝”。在一些標牌制造工廠(chǎng)內用此工藝試做PWB,以手工操作為主,腐蝕液是三氯化鐵,濺上衣服就會(huì )變黃。當時(shí)應用PWB的代表性產(chǎn)品是索屁制造的手提式晶體管收音機,應和PP基材的單面PWB。在1958年日本出版了書(shū)名為“印制電路”的最早的有關(guān)PWB啟蒙書(shū)藉。

        3、PWB實(shí)用期:1960年~(新材料:GE基材登場(chǎng))

        1955年沖電氣公司與美國Raytheon進(jìn)行技術(shù)合作,制造“海洋雷達”。Raytheon公司指定PWB要應用覆銅箔玻璃布環(huán)氧樹(shù)脂層壓板(GE基材)。于是日本開(kāi)發(fā)GE基材新材料并完成國產(chǎn)化,實(shí)現國產(chǎn)海洋雷達批量生產(chǎn)。1960年起沖電氣公司開(kāi)始在批量生產(chǎn)電氣傳輸裝置的PWB大量用到GE基板材料。

        1962年日本“印制電路工業(yè)會(huì )”成立。1964年美國光電路公司開(kāi)發(fā)出沉厚銅化學(xué)鍍銅液(CC—4溶液),開(kāi)始了新的加成法制造PWB工藝。日立化成公司引進(jìn)了CC—4技術(shù)。用于PWB的國產(chǎn)GE基板在初期有加熱翹曲變形、銅箔剝離等問(wèn)題,材料制造商逐漸改進(jìn)而提高,1965年起日本有好幾家材料制造商開(kāi)始批量生產(chǎn)GE基板,工業(yè)用電子設備用GE基板,民用電子設備用PP基板,已成為常識。

        4、PWB跌進(jìn)期:1970~(MLB登場(chǎng),新安裝方式登場(chǎng))

        沖電氣公司等通信設備制造企業(yè)各自設立PWB生產(chǎn)工廠(chǎng),同時(shí)PWB專(zhuān)業(yè)制造公司也快速崛起。這時(shí),開(kāi)始采用電鍍貫通孔實(shí)現PWB的層間互連。在1972~1981年的10年間,日本PWB生產(chǎn)金額約增長(cháng)6倍(1972年產(chǎn)值471億日元,1981年產(chǎn)值3021億日元),是大躍進(jìn)的紀錄。

        1970年起電訊公司的電子交換機用PWB用到3層印制板,此后大型計算機用到多層印制板(MLB),由此MLB得到重用而急速發(fā)展,超過(guò)20層的MLB用聚酰亞胺樹(shù)脂層壓板作為絕緣基板。這個(gè)時(shí)期的PWB從4層向6、8、10、20、40、50層…,更多層發(fā)展,同時(shí)實(shí)行高密度化(細線(xiàn)、小孔、薄板化),線(xiàn)路寬度與間距從0.5mm向0.35、0.2、0.1mm發(fā)展,PWB單位面積上布線(xiàn)密度大幅提高。

        PWB上元件安裝方式開(kāi)始了革命性變化,原來(lái)的插入式安裝技術(shù)(TMT)改變?yōu)楸砻姘惭b技術(shù)(SMT)。引線(xiàn)插入式安裝方法在PWB上應用有20年以上了,并都依靠手工操作的,這時(shí)也開(kāi)發(fā)出自動(dòng)元件插入機,實(shí)現自動(dòng)裝配線(xiàn)。SMT更是采用自動(dòng)裝配線(xiàn),并實(shí)現PWB兩面貼裝元件。

        5、MLB躍進(jìn)期:1980年~(超高密度安裝的設備登場(chǎng))

        在1982年~1991年的10年間,日本PWB產(chǎn)值約增長(cháng)3倍(1982年產(chǎn)值3615億日元,1991年10940億日元)。MLB的產(chǎn)值1986年時(shí)1468億日元,追上單面板產(chǎn)值;到1989年時(shí)2784億日元,接近雙面板產(chǎn)值,以后就MLB占主要地位了。

        1980年后PCB高密度化明顯提高,有生產(chǎn)62層玻璃陶瓷基MLB,MLB高密度化推動(dòng)移動(dòng)電話(huà)和計算機開(kāi)發(fā)競爭。

        6、邁向21世紀的助跑期:1990年~(積層法MLB登場(chǎng))

        1991年后日本泡沫經(jīng)濟破滅,電子設備和PWB受影響下降,到1994年后才開(kāi)始恢復,MLB和撓性板有大增長(cháng),而單面板與雙面板產(chǎn)量卻開(kāi)始一直下跌。1998年起積層法MLB進(jìn)入實(shí)用期,產(chǎn)量急速增加,IC元件封裝形式進(jìn)入面陣列端接型的BGA和CSP,走向小型化、超高密度化安裝。

        今后的展望

        50多年來(lái)PWB發(fā)展變化巨大。自1947的發(fā)明半導體晶體管以來(lái),電子設備的形態(tài)發(fā)生大變樣,半導體由IC、ISI、VLSI、…向高集成度發(fā)展,開(kāi)發(fā)出了MCM、BGA、CSP等更高集成化的IC。21世紀初期的技術(shù)趨向就是為設備的高密度化、小型化和輕量化努力,主導21世紀的創(chuàng )新技術(shù)將是“納米技術(shù)”,會(huì )帶動(dòng)電子元件的研究開(kāi)發(fā)。


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