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      Teknek推出標簽印刷業(yè)最先進(jìn)接觸式清潔系統

      2009-03-06 11:10 來(lái)源:TEKNEK 責編:任蓓

             近日,接觸式清潔科技全球領(lǐng)導者Teknek,推出標簽印刷行業(yè)最先進(jìn)接觸式清潔系統。經(jīng)過(guò)五年研發(fā),Nanocleen 宣告了一項具有劃時(shí)代的先進(jìn)污染及靜電控制接觸式清潔技術(shù)。

             Teknek 從20年前發(fā)明接觸式清潔以來(lái),一直在研發(fā)上保持領(lǐng)先。Tenkek清潔機已有15, 500臺裝設在全世界用戶(hù)廠(chǎng)內,幫助用戶(hù)增加生產(chǎn)效益、減少廢品及削減停機時(shí)間。推估Teknek科技已為用戶(hù)節省超過(guò)20億美金。


             Nanocleen 系統的核心是一支特殊配方制成的滾輪及粘塵紙卷。Nanocleen提供了一些超越傳統接觸式清潔系統的優(yōu)點(diǎn),包括:其特殊聚合材質(zhì)滾輪可清除更微小異物 – 小至25nm(納米)。當前世界上所有其它的清潔設備供應商只能處理到微米級。


             Nanocleen超高性能,可比其它接觸式清潔系統多清除25~50%異物量。除了清除污染外,這種滾輪也可散除靜電。其靜電消除性能,相較于傳統接觸式清潔系統,可得滿(mǎn)分10分。其滾輪及粘塵紙卷100% 無(wú)硅。傳統滾輪及粘塵紙卷皆含有硅成分,對生產(chǎn)線(xiàn)有污染風(fēng)險。


             Nanocleen系統可安裝在舊型或新型Teknek清潔機以及其它制造廠(chǎng)的清潔機上 (使用選購之升級套件,毋需重新投資硬件) 。


             Teknek總經(jīng)理史蒂芬?米奇說(shuō):“Teknek對Nanocleen的新技術(shù)已投入巨大的研發(fā)資源于以及廣泛用戶(hù)處應用測試。”他補充:“Nanocleen在未來(lái)的幾年必將成為接觸式清潔的標準。市場(chǎng)上無(wú)可與其匹敵者,由其提供的空前高水平的污染清除及靜電消除性能,在生產(chǎn)效益改善、廢品減量方面,將為用戶(hù)提供顯著(zhù)的競爭優(yōu)勢。”
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